真空蒸鍍基本原理是在真空條件下，使金屬、金屬合金或化合物蒸發，然後沉積在基體表面上，蒸發的方法常用電阻加熱，高頻感應加熱，電子束、激光束、離子束高能轟擊鍍料，使蒸發成氣相，然後沉積在基體表面，曆史上，真空蒸鍍是PVD法中使用最早的技術。

物理氣相沉積技術工藝過程簡單，對環境改善，無污染，耗材少，成膜均勻緻密，與基體的結合力強。該技術廣泛應用于航空航天、電子、光學、機械、建築、輕工、冶金、材料等領域，可制備具有耐磨、耐腐飾、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層

PVD真空電鍍特性

、鍍膜特性 卓越的附着力 – 可以折彎90度以上不發生裂化或者剝落（PVD鍍膜持有很高附着力和耐久力）。其它的技術，包括電鍍，噴塗都不能與其相比。 可以蝕刻出任何能夠想象出的設計圖案/可以使用在内裝修或者室外 抗氧化，抗腐蝕。 C、PVD膜層...